如何掌控真空鍍膜的（de）均勻性
我們先來認識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜（mó）機是使用（yòng）鍍膜（mó）機的關（guān）鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；
2、測（cè）試設備的密封性能，就是抽到極限後（hòu）保壓1小時看壓降是否（fǒu）達標，同時排（pái）除細（xì）小的漏孔；
3、產品試（shì）作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保（bǎo）證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應作記錄，並（bìng）有記錄人簽字以及（jí）有使用部門或工程部門（mén）的人確認（rèn）簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈（dēng）鍍膜機原理的（de）不同分為很多種類，僅僅因為都需（xū）要高真空（kōng）度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不（bú）盡相同。並且均勻性這個概念本身也會隨（suí）著鍍（dù）膜（mó）尺度和薄膜成分而有著（zhe）不同的意義，下麵（miàn）分別說一下：

均勻性主要體現在3方（fāng）麵：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長（zhǎng）作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在（zài）可見光波長的1/10範圍內，也就（jiù）是說對於多弧離子鍍（dù）膜機的光學特性來說（shuō），真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺（chǐ）度上的均勻（yún）度，也就是說要實現（xiàn）10A甚（shèn）至1A的表麵平整（zhěng），是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在。
2、化學（xué）組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易（yì）的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺（jiàn）控濺射鍍膜機（jī）過程不科學，那麽實際表麵的組（zǔ）分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成（chéng）分，這也（yě）是真空鍍（dù）膜（mó）的（de）技術含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這（zhè）決（jué）定了薄膜（mó）是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱（rè）點（diǎn）問題。 

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