磁控濺射是一（yī）種 (PVD) 工藝，是製造半導體、磁盤驅動（dòng）器、CD 和光學器件的主要薄膜沉（chén）積方法。以下是磁控濺射中（zhōng）常見的問題（tí）。小編列（liè）出了可能（néng）的原因和（hé）相關解決（jué）方案供您參考（kǎo）。

● 問題一：薄膜灰黑或暗黑
● 問題二：漆膜表麵暗淡無光澤
● 問題三（sān）：薄膜顏色不均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題五：薄膜（mó）表麵（miàn）有水印、指紋和灰粒

 薄膜灰黑或暗（àn）黑 
丨真空度小於0.67Pa；真空度應提高到0.13-0.4Pa。
丨氬（yà）氣純度小於99.9%；氬氣應更換為純度為 99.99%。
丨充氣係統漏氣；應檢查（chá）充氣係統以消除漏氣（qì）。
丨薄膜未充分固化；薄膜的固化時間應適當延長。
丨鍍件排出的氣體量過大；應進行幹燥和密封。

 漆（qī）膜表麵無光澤 
丨薄膜固化（huà）不（bú）良或變質；應延長薄膜固化（huà）時間（jiān）或更換底（dǐ）漆（qī）。
丨（shù）磁控濺射時間過長；施工時間應適當縮短。
丨磁控濺射成膜速（sù）度太快；磁控濺射電流或電壓應適當降低。

 薄膜顏色不均勻 
丨底漆噴塗不均；底漆的使（shǐ）用方法有待改進。
丨膜層太薄；應適當提高磁控濺射（shè）速率（lǜ）或延長磁控濺射時間。
丨夾具設計不（bú）合理；應改進夾具（jù）設計。
丨鍍件幾何形狀過於複（fù）雜；鍍件的轉速應適當提高。

 起皺、開裂 
丨底漆噴（pēn）得（dé）太厚；應控製噴霧的厚度。
丨塗層粘度過高；應適當降低塗料的粘度。
丨蒸發速度過快；蒸（zhēng）發速度應適當減慢。
丨膜（mó）層太厚；濺（jiàn）射時間（jiān）應適當縮短。
丨電鍍（dù）溫度過（guò）高；鍍件的（de）加熱時間應適當縮短。

 薄膜表麵有（yǒu）水印、指紋和灰粒 
丨鍍件清洗後未充分幹燥；應加強鍍前處理。
丨在鍍件表麵潑水或（huò）唾液；加強（qiáng）文明生產，操作人員戴口罩。
丨塗底漆後，手接觸鍍件，表麵留（liú）下指紋；嚴禁用手觸摸鍍件表麵（miàn）。
丨有顆粒物，應過（guò）濾或除塵。
丨靜電除塵失敗或噴塗固（gù）化環境有（yǒu）顆（kē）粒粉塵；應更換除塵器並清潔工作環（huán）境。


除以（yǐ）上常用材料外，金屬（shǔ）靶（bǎ）材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等，均有在鍍膜中（zhōng）使用。多質靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯（gào）、銅錳、鎳（niè）鉻、矽鋁、釩錸、鎢鉬等。

下（xià）一（yī）個：紫外線燈在真空鍍膜上的光固化塗料（liào）的運用