如何（hé）掌（zhǎng）控真空（kōng）鍍膜的均勻性
我們先來認識（shí）下（xià）怎麽調試鍍膜機，因為掌握調（diào）試鍍膜機是（shì）使用（yòng）鍍膜機的關鍵怎（zěn）麽調試鍍膜機
1、測試設備（bèi）的抽真空速度，在測（cè）試過程中檢查（chá）漏氣情況與（yǔ）各真空泵的性能；
2、測試設備的（de）密封性能（néng），就是抽到極限後保壓1小時（shí）看壓降是否（fǒu）達標（biāo），同（tóng）時排除細小的漏孔；
3、產（chǎn）品試（shì）作，檢驗（yàn）其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝（yì）保證的話就繼續打樣並作測（cè）試。
5、所有的測試應（yīng）作記錄，並有記錄人簽字以及有使（shǐ）用部門或工（gōng）程部門的人（rén）確（què）認簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由（yóu）於車燈鍍膜機原理的不同分為很多種類，僅（jǐn）僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以（yǐ）對於不同原理（lǐ）的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。並且均勻（yún）性（xìng）這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄（báo）膜成分（fèn）而有著不同的意義，下麵分別說一下（xià）：

均勻性主要體現在3方麵：
1、厚（hòu）度上的均（jun1）勻性，也可以理解為粗糙度（dù），在光（guāng）學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜（mó）的均勻性已經相當好（hǎo），可以輕鬆將粗糙度控製（zhì）在可（kě）見光波長的（de）1/10範圍內，也（yě）就是說對於多弧（hú）離（lí）子鍍膜（mó）機的光學特（tè）性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但（dàn）是如果是（shì）指原子層尺度（dù）上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的（de）表麵平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說（shuō）在薄膜中，化（huà）合（hé）物的（de）原子組分會由於尺度過小而很容易的產生不均勻特（tè）性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜（mó）機過程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍（dù）的膜並（bìng）非是想要的膜（mó）的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所（suǒ）在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄（báo）膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。 

下一個（gè）：沒有資料