對於真空鍍膜機設備的分類，到底了解（jiě）多少？
真空鍍膜機主要指一類需要在較（jiào）高真空度下進行（háng）的鍍膜（mó）設備，包（bāo）括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺（jiàn）鍍膜機射、
MBE分子束（shù）外延鍍膜機和PLD激光濺射（shè）沉積鍍（dù）膜機等很多種。

主要是分成蒸發和濺射兩（liǎng）種。
在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為（wéi）基片，鍍的材料被（bèi）成為靶材。
基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱（rè）靶材使表（biǎo）麵組分以原子團或（huò）離子形式被蒸發出來，並且沉降在基片表麵，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜機對於濺射類鍍膜，可（kě）以簡單理（lǐ）解為利用電子或高能（néng）激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射（shè）出來，
並且最終沉積在（zài）基片表（biǎo）麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們的組合製（zhì）成的雙層水冷結構。

根據工藝要求選擇不同規（guī）格及類型鍍膜設備，其類（lèi）型有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發（fā）真空鍍膜設備、
磁控（kòng）濺射真空（kōng）鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反（fǎn）應濺射真空（kōng）鍍膜設備、空心（xīn）陰極離子鍍和多弧（hú）離子鍍（dù）等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶可根據片尺（chǐ）寸及形狀提（tí）出相應要求，轉動的速度範圍及轉（zhuǎn）動（dòng）精度：普通可調及變頻調速（sù）等。