離子鍍是真空室（shì）中，利用氣體放電或被（bèi）蒸發物質部分離化，在氣體（tǐ）離（lí）子或被蒸發物質（zhì）粒子轟擊作用的（de）同時，將蒸發物或（huò）反應物沉積（jī）在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸（zhēng）發三者有機結合起來，不僅能明顯（xiǎn）地改進了膜質（zhì）量，而且還擴（kuò）大了薄膜的應（yīng）用範圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍（dù）與一般的離子鍍有著很大的區別。多（duō）弧離子鍍采用的是弧光放電，而並不是傳統（tǒng）離子鍍的輝光放電（diàn）進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶（bǎ）作為蒸發源，通過靶與陽極殼體之間（jiān）的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空（kōng）間中形成等離子體，對基體（tǐ）進行沉積。

可（kě）以鍍製不鏽鋼、鉻、鈦、鎢等（děng）多種金屬（shǔ）膜，也可鍍製合（hé）金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧離子鍍膜機主要針（zhēn）對大麵積五金工件鍍裝飾膜或者功能膜（mó），適合於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼門等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備真空室最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是（shì）在大型板材、管材上鍍製各類裝飾膜層（céng）及功能膜膜層的適合設備。