GSF係列高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機(jī)

日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:26281
GSF係列高精密電(diàn)子束蒸發(fā)光學真空鍍膜機

工作原(yuán)理

GSF高精密電子束蒸(zhēng)發光學真空鍍膜機的工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利用電子束加熱,使膜材中的原子或分子從表麵汽化(huà)逸出後入射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸發比一般電(diàn)阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快,製成的薄膜純度高。

應用範圍

光學鍍膜設備可鍍製層數較多的(de)短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分(fèn)光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜(mó)係鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的(de)鍍膜要求。配置不同的(de)蒸發源、電(diàn)子槍和離子源及膜厚儀可鍍多(duō)種膜係,對金屬、氧化物、化合物(wù)及其他高熔點膜(mó)材皆可(kě)蒸鍍。

產品特點

1)、高精密光學鍍膜機配(pèi)備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚自動控製係統,采用PLC與工業電腦配合自(zì)主研發的(de)PY3100係統聯合實(shí)現對整個工作過程的全(quán)自動(dòng)控製,可以實(shí)現無人值守,從而(ér)提高了(le)工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係(xì)統加配深冷裝置,優秀的動態真空能力(lì),為複雜的光學膜係(xì)製備提供了必要(yào)的真空條件保障。
3)、蒸發分(fèn)布穩(wěn)定(dìng)、性能可靠的E型電子槍,優化設計的(de)蒸發源與工件架之間的位(wèi)置關係,為精密膜係的實現調(diào)工了(le)膜料(liào)蒸發分布方麵(miàn)的保障。
4)、平穩而高速旋轉的工件(jiàn)架轉動係統,使工件架(jià)內外圈產品光(guāng)譜曲線(xiàn)更(gèng)趨於一致。
5)、適用於光學領域行業,大規模工業生產高端要(yào)求的廠商使用。

技術參數表

GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機
型號GSF-800GSF-1200GSF-1400GSF-1600GSFW-1000GSFW-1200GSFW-1600
真空室尺寸 Φ800×1000MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1600×1800MMΦ1000×1100MMΦ1200×1400MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT630擴散泵(bèng)機組雙KT630擴散泵機組雙(shuāng)KT630擴散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統電子槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子源
充(chōng)氣(qì)係統壓強控製儀
控製方式半自動或全(quán)自動
膜厚監控係統石英晶體膜厚監控係統、光學膜厚監控係統
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真(zhēn)空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參(cān)考,具體均按客戶實際工藝(yì)要求設計訂做
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