離子鍍是（shì）真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣（qì）體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物（wù）或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光（guāng）放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者（zhě）有機結合起來，不僅能明顯地改（gǎi）進了膜質量，而且（qiě）還擴（kuò）大了薄膜的應用範圍。其（qí）優點是薄（báo）膜附著力（lì）強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍與一（yī）般的離子鍍有著很大的區別（bié）。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而（ér）並不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作（zuò）為蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間中形成等離子（zǐ）體，對基體進行沉積。

可以鍍製不（bú）鏽鋼（gāng）、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍製合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧離子鍍膜（mó）機（jī）主要針對大麵（miàn）積五（wǔ）金工件鍍裝飾膜或者功能膜，適合於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼門等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備（bèi）真空室最大（dà）尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型（xíng）板材（cái）、管材上鍍（dù）製各類裝飾膜層及功能膜膜層的適合設備。