磁控濺射技術自誕（dàn）生以來，得到了較快的發展和較廣的應用，對其他鍍膜方法的發展產生（shēng）了很大的（de）影響。通過大量的實踐，91巨炮在线观看真空總結（jié）出這（zhè）種技術的（de）優缺點，如下文所示。

　　優點：
　　1.沉積速率高，襯底（dǐ）溫升（shēng）低，對薄膜損（sǔn）傷小；
　　2.對於大多數材料，隻要能製（zhì）造出靶材，就可以實現濺射；
　　3.濺射（shè）得到的薄膜與（yǔ）基底結合良好；
　　4.濺射得到的薄膜純度（dù）較高，密度好，均勻性好；
　　5.結（jié）果表明，濺射工（gōng）藝具有良好（hǎo）的重複性（xìng），在（zài）大麵積襯底上可獲得厚度均勻的（de）薄膜；
　　6.可以準確控製塗層厚（hòu）度，通過改變參數來控製薄膜的粒徑；
　　7.不（bú）同的（de）金屬、合金和氧化物（wù）可以混合（hé），同時濺射在基（jī）體上；
　　8.易（yì）於工業化。


　　但是磁（cí）控濺（jiàn）射也存在一（yī）些（xiē）問題
　　1.該技術所（suǒ）使用的環形磁（cí）場迫使次級電子圍（wéi）繞環形磁場跳躍（yuè）。因此，由環形磁場控製的區域是等離子體密度較（jiào）高的區域（yù）。在該技術中，我們（men）可以看到（dào）濺射氣體氬在這一區域發出強烈的淡藍色光芒，形成光暈。光暈下的靶是離子轟擊比較嚴重的部分，它會濺出一個（gè）圓形的（de）溝（gōu）槽。環形磁場（chǎng）是電子運動的軌道，環形輝光和溝槽生（shēng）動地表現了這一點。靶材的濺射（shè）槽一旦穿透（tòu）靶材，整（zhěng）個靶材就會報廢，靶材利（lì）用（yòng）率（lǜ）不高，一般低於40%；
　　2.等離子體不穩定；
　　3.由於基本的磁通量（liàng）均不能通過磁性（xìng）靶（bǎ），所以在靶麵（miàn）附近不可能產生外加磁場。

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