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現代真空鍍膜機膜厚的測量及監控方法

作者: 來源: 日期:2016-01-12 16:12:17 人氣:111496
    最直接的鍍膜控製方法是石英晶體微量平衡法(QCM),這種儀器可以直接(jiē)驅動蒸發源,通過PID控製循環驅動擋板,保持蒸發速率。隻要將儀器(qì)與係統控製軟件相連接,它就可以控製整個的鍍膜(mó)過程。但是(QCM)的精確度是有限的,部分原(yuán)因是由於它監控的(de)是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。
    此(cǐ)外(wài)雖然QCM在較低溫度下非常穩定,但溫度較(jiào)高時,它會變得對溫度非常敏(mǐn)感。在長時間的加(jiā)熱過程中,很難阻止傳感器跌入這(zhè)個敏(mǐn)感區域,從而對膜層(céng)造成重大誤差。
    光學監控是高精密鍍膜的的首選監(jiān)控方式,這(zhè)是因為它可以更精確地控製膜層厚度(如果運(yùn)用得當(dāng))。精(jīng)確度的改進源於很多因素,但最根本的原因是對光學厚度的監控。
    OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監控係(xì)統,是采用間接測控,結合汪博士開發的先進光學監控軟件(jiàn),有效提高光學反應(yīng)對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少終極誤差,提供了反饋或傳輸的(de)選(xuǎn)擇模式和大範圍的監測波長。特別適合於各種膜(mó)厚的鍍膜監控包括(kuò)非規整膜監控(kòng)。
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