化學氣（qì）相沉積是一種製備材料的氣相生長方法，它是把一種或幾種（zhǒng）含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基材（cái）的反應室，借助空（kōng）間（jiān）氣相化（huà）學反應在基體表（biǎo）麵上沉積固態薄膜的工藝技術。化學氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱CVD)是反應物（wù）質在氣態條（tiáo）件下發生化學反應，生成固態物質沉積在加熱的（de）固態（tài）基（jī）體表麵，進而製得固體材料的工藝技術。它本質上屬於原子範疇的氣態傳質過程。與之相對的是物理氣相沉積（PVD）。