無論監控儀精度怎樣，它也隻能控製真空室裏單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的（de）膜厚不是（shì）絕對均勻的，那麽遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度（dù）。雖然屏蔽罩能（néng）消除表現為長期的（de）不均勻性，但（dàn）有（yǒu）些（xiē）膜厚度的變（biàn）化是由蒸發源的不穩定或膜材的不同表現而引起的，所以幾乎是不可能（néng）消除的，但對真空室的結構和蒸發（fā）源的恰當選擇（zé）可以使（shǐ）這些影響最小（xiǎo）化。
　　在過去幾年中，越來越多（duō）的用戶要求鍍膜係統製造（zào）廠家提供高性能的小規格、簡便型光學鍍膜係統，同時，用（yòng）戶對性能的（de）要求不僅沒有降低（dī），反而有所提高，特別是在薄膜（mó）密度和保證吸水後光譜變化最（zuì）小化等方麵。
　　現在（zài），係統的平均尺（chǐ）寸規格已經在降低，而應用小規格設備（bèi）進行光學鍍膜的生產也已經轉（zhuǎn）變成為純技術問題。因此，選用現代化光學鍍膜係統的關鍵取決於對以下因素的認真考慮：對鍍膜產（chǎn）品的預期性能（néng），基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

下一個（gè）：如何正確維護鍍鋅槽液？