磁控濺射鍍膜機有很多種類型,有中頻的,也有(yǒu)直流的。在生活中應用也(yě)是非(fēi)常的廣泛(fàn),如:手提電(diàn)腦(nǎo)、手機殼、電話、無線通訊、試聽(tīng)電子、遙(yáo)控器(qì)、醫用工具、表殼、手機殼、五金等。它的(de)優(yōu)勢也是非常的凸顯.
磁控濺(jiàn)射鍍膜設備配置了等離子體處理(lǐ)裝置,高(gāo)效磁控濺射陰(yīn)極(jí)和電阻蒸發裝置(zhì)等,設備沉積速率快,鍍層附著力好,鍍層細膩致密,表(biǎo)麵光潔度(dù)高,且均勻(yún)性一(yī)致性良好;該機實(shí)現鍍膜工藝全自動化控製,裝載量大,工作可靠,合格率高(gāo),生產成本低,綠色環保。該設備主(zhǔ)要廣泛應用於電腦殼、手機殼(ké)、家用電器(qì)等行業,可鍍製金屬膜、合金膜、複合膜層、透明(míng)(半透明)膜、不(bú)導電膜、EMI電磁屏蔽膜等(děng)。
磁控濺射鍍膜機將磁控濺射技術和真空蒸發技(jì)術結合在同一真空(kōng)鍍膜設備裏(lǐ),既利用磁控濺射陰極輝(huī)光放電將靶材原子賤出並部分離化沉積在基材成膜,同時又可利用在真(zhēn)空中以電阻加熱將(jiāng)金(jīn)屬(shǔ)鍍料熔融並讓其氣化再(zài)沉積在基材上成膜,增加(jiā)了設備的用途和(hé)靈活性。該設備應(yīng)用(yòng)於手機殼等塑料表麵金屬化,應用於不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。
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