真空鍍（dù）膜（mó）設備多弧離子鍍膜上的創新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材（cái）料和被鍍基板於室內，

真空鍍膜（mó）機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待（dài）鍍材料，使之蒸發或升華，並飛行濺射到被鍍基板表麵凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優點，可減少（shǎo）蒸發材料的（de）原子、分子在飛向基板過程中於分（fèn）子的碰撞，

減少氣體中（zhōng）的活性分子和蒸發源材料間（jiān）的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量（liàng），從而（ér）提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著（zhe）力。

真空鍍膜設備多弧（hú）離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵處理的不足（zú），且（qiě）各項技（jì）術指標都優於（yú）傳（chuán）統工藝，在五金、機械、化（huà）工、模（mó）具、電（diàn）子、儀器等領域有廣泛應用。

催化液和傳統處理（lǐ）工藝（yì）相比，在技術上有（yǒu）哪些創新？

1、多弧離子（zǐ）鍍（dù）膜不用電、降（jiàng）低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧（hú）離子鍍膜鉻的三分（fèn）之一，不（bú）鏽鋼的（de）四分之一，可反複利用，大大降低了（le）成本。