濺射靶材具（jù）有高（gāo）純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。

靶坯屬於濺射靶材的核心（xīn）部分，是高速離子束流轟擊的目標材（cái）料。

靶坯被離子撞擊後，其表麵原子被濺射飛（fēi）散出來並沉積於基板（bǎn）上製成電子薄膜。

由於高（gāo）純度金屬強度較低，因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機台環境內（nèi）完成濺射過程。

超高純（chún）金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝（yì）進（jìn）行接合，背板（bǎn）起（qǐ）到主要（yào）起到固定濺射靶（bǎ）材的作用，且需要具備良好的導電、導熱性（xìng）能。