氣體的分布狀況對（duì）於平板基片鍍膜來說是極其重要的，通過機械結構設計，使氣體密（mì）度的變化率在濺射沉積區域（yù）內的盡量小。

而在區域（yù）外，使係（xì）統的流導盡量的大，以提高氣體的（de）利用率和抽氣係統的效率。

控製氣體分布的機械部件或結構（gòu）包括布氣係統、真空室的結構（gòu）、抽氣係統等三（sān）個（gè）部（bù）分。