真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍 

真空鍍主要包括真（zhēn）空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍（dù）幾種類（lèi）型，它（tā）們都是采用在真空條（tiáo）件下，通過蒸餾或濺射等（děng）方式在塑件表麵（miàn）沉積各種金屬和（hé）非金（jīn）屬薄膜（mó），通過這（zhè）樣（yàng）的方式可以得到非常薄的表麵鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作（zuò）較高檔產品的功能性（xìng）鍍層。

真空蒸（zhēng）鍍法是在高真空下為（wéi）金屬加熱，使其熔融、蒸發，冷卻後在（zài）樣品表麵形成金屬薄膜的方法,鍍層厚度為0.8-1.2um。將成形品表麵的微小凹凸部分填平（píng），以獲得如鏡麵一樣的表麵，無任是為了得（dé）到反射鏡作用（yòng）而實施真空蒸（zhēng）鍍，還是對密接性較低的奪鋼進行真空蒸鍍時，都必須進行底麵塗布處理。

濺（jiàn）鍍通（tōng）常指的是磁控濺鍍，屬於高速（sù）低溫濺鍍法。該工（gōng）藝要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空狀態充入惰性氣體（tǐ）氬氣（Ar），並在塑膠（jiāo）基材（陽極）和金屬靶材（陰極）之間加上高（gāo）壓直流（liú）電，由於輝光放電（diàn）（glow discharge）產生的電子激發惰性氣體，產生等（děng）離子（zǐ）體，等離子（zǐ）體將金屬靶材的原子轟出，沉積在塑膠基材上。一般（bān）金屬鍍膜大都采用（yòng）直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍。

離子鍍是在真空條（tiáo）件下，利用氣體放（fàng）電使氣體或被蒸發物質部分電（diàn）離，並在氣（qì）體離子或被蒸發物質離子（zǐ）的轟擊下，將蒸發物質或其反應物沉積在基（jī）片（piàn）上（shàng）的方法。其中包括磁（cí）控濺射離（lí）子鍍、反（fǎn）應（yīng）離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧（hú）離子鍍）等。