濺射靶（bǎ）材： 濺射靶材按形狀分類（lèi）：矩形平麵靶材、圓形平（píng）麵（miàn）靶材、圓柱靶材

濺射靶材按成分分類：單質（zhì）金屬靶材（cái）、合金靶材、陶瓷靶材

平麵（miàn）靶材利用率比較低（dī），隻（zhī）有30%左右（yòu），沿著環形跑道（dào）刻蝕。 

靶材冷卻與靶背板 

1. 靶功率密度與靶材冷卻：靶功率越大，濺射速度（dù）越大；靶允許的功率與靶材的性質及冷卻有關；靶材采用直接水冷，允許的靶功率高。

2. 靶背板 target backplane

使用場合（hé）：ITO,SiO2,陶瓷等脆（cuì）性（xìng）靶材及燒（shāo）結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟（ruǎn）金屬靶（bǎ）；靶材太薄、靶材（cái）太貴

材質要求：

導熱性好---常用無氧銅，無（wú）氧銅的導熱性比紫（zǐ）銅好；強度（dù）足夠---太薄，容易（yì）變形，不（bú）易真空密（mì）封。 

結（jié）構： 

空心或者實心結（jié）構---磁鋼不泡或泡在冷水中；厚度適當---太厚，消耗部分磁強；太薄（báo），容（róng）易變形。