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射頻磁控濺射
作者(zhě): 來源: 日期:2021-04-26 8:57:00 人氣:2387
用(yòng)來進(jìn)行介(jiè)質膜的濺(jiàn)射,如(rú)在玻璃上(shàng)鍍ITO膜之前(qián)需鍍上一層SiO2擴散隔離層,該SiO2膜就是采用射頻濺射。
通常在濺射過(guò)程中輝光放電中的(de)離子撞擊到陰極時,會與陰極的電子中和,是的濺射現象可以繼續進行。
但若靶(bǎ)材本身不導(dǎo)電的話,離(lí)子撞擊到靶(bǎ)材上沒有(yǒu)電子中(zhōng)和,
正電荷一直累積,使與後來(lái)的離子排斥,這會造成(chéng)取代直流電源,使可解決此離子撞擊(jī)現(xiàn)象的停頓(dùn)。
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