磁控（kòng）濺射真空鍍膜機（jī）需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶（bǎ）材。 基片與靶材同在（zài）真空腔中。蒸發鍍膜一般是加（jiā）熱靶材使表麵組分以原子（zǐ）團或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表麵（miàn），通過（guò）成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高（gāo）能激光轟擊靶材，並使表麵組分以（yǐ）原子（zǐ）團或離子形式被濺射出來，並且最（zuì）終沉積在基片表麵，經曆（lì）成（chéng）膜過程，最終形成薄膜。

使（shǐ）用（yòng）步驟（zhòu）：
電控櫃操作
1、開水泵、氣（qì）源。
2、開總電源。
3、開維持泵、真空計電源，真空計檔位置（zhì）V1位置，等待其值（zhí）小於10後，再進入（rù）下一步（bù）操作。約需5分鍾。
4、開機械泵、預抽，開渦輪分（fèn）子泵電源、並啟（qǐ）動（dòng），真空計開關換到V2位置，抽到小於2為止，約需20分鍾。
5、觀察（chá）渦輪分子泵讀數到達250以後（hòu），關預抽，開前級泵和高真空閥繼續抽真空，抽真（zhēn）空到達一定程度後（hòu）才能開右邊的高真空表頭，觀察真（zhēn）空度。真空到達（dá）2×10-3以後才能打（dǎ）開（kāi）電子槍電（diàn）源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時開電子（zǐ）槍控製Ⅰ和電（diàn）子槍控製Ⅱ電源：按電子槍控製Ⅰ電（diàn）源、延（yán）時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鍾後延時及保護燈滅，若後門未關好或水（shuǐ）流（liú）繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高（gāo）壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電（diàn）流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺（bǎi）動。

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