CJ係列磁（cí）控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作（zuò）原（yuán）理，所謂“濺射”就是（shì）用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引（yǐn）起物體表麵原子（zǐ）從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電（diàn）磁場，磁場為曲線形，均勻電（diàn）場（chǎng）和對數電場則分別用於平麵靶和（hé）同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生（shēng）碰撞。若電子具（jù）有足夠的能量（約（yuē）為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向（xiàng）陰極（濺射（shè）靶）並以高能（néng）量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射（shè）。 

廣泛應用於家電（diàn）電器、鍾表、高爾（ěr）夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩（zhào）、手機按鍵外殼以（yǐ）及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能（néng）塗層，在鍍製（zhì）超黑膜、純金裝飾膜、導電（diàn）膜（mó）等領域（yù）有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性（xìng）好。能夠可靠的鍍（dù）製預定（dìng）厚度（dù）的薄膜，並（bìng）且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層（céng）；
2）、薄膜與基片的（de）附著力（lì）強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注（zhù）入現象，在基片上形成一層濺射（shè）原子與基（jī）片（piàn）原（yuán）子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還（hái）可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高，濺（jiàn）射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝（zhuāng）備低溫離子輔助源（yuán），無需加熱直（zhí）接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。