CJ係列磁控（kòng）濺射真空鍍膜機（jī）的磁控濺射工作原理，所謂“濺（jiàn）射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子（zǐ））轟擊物體，從而引起物體表（biǎo）麵原子從母體中逸出的現象。早在1842年（nián）Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止（zhǐ）電磁場，磁場為（wéi）曲線形，均勻電場（chǎng）和對數電場則分（fèn）別用於（yú）平麵靶和同軸圓柱靶。電（diàn）子在電場作用（yòng）下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向（xiàng）陰極（濺射靶）並以高能（néng）量轟擊靶表（biǎo）麵，使靶材（cái）發生濺（jiàn）射。 

廣泛應用於家電電（diàn）器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品（pǐn）、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶（táo）瓷、磁（cí）磚等（děng）表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢（shì）。

1）、膜厚可控性和重複性好。能（néng）夠可（kě）靠的鍍製（zhì）預定厚度的薄（báo）膜，並且濺射鍍膜可以（yǐ）在較大的（de）表麵上獲得厚度均（jun1）勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子（zǐ）產生不同（tóng）程度的注入現象，在基片上形（xíng）成一層濺射原子與基片原（yuán）子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材（cái）料的薄膜，可以使用不同的材料（liào）同時濺射製（zhì）備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿（fǎng）金膜；
4）、膜層純度高，濺射膜層中不會混入坩（gān）鍋加熱器材料的成份（fèn）。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷（lěng）鍍成（chéng）膜，節能省電，提高產能。