真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分（fèn）支，它已廣泛地應用於光學、電子學、能源開發，理化儀器（qì）、建築機械、包裝、民用製品、表麵科學以及科學（xué）研究等領域中。真空（kōng）鍍膜所（suǒ）采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子（zǐ）鍍（dù）、束流沉積鍍以及分子束外（wài）延等。此外還有化學（xué）氣相沉（chén）積法（fǎ）。如果從真空鍍膜的目的是為（wéi）了改變物質表（biǎo）麵的物理、化學（xué）性能的話，這一技術又是真空表麵處理技術中的重要組成部分，其分類如表（biǎo） 6 所示。現就其幾（jǐ）個主要應用方麵做一簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光學玻璃（lí）或石英表麵上鍍一層或幾層不同物質的薄膜後，即可成為高反射或無反射（即（jí）增（zēng）透膜）或者作任何預期比例的反射或透射材料（liào），也可以作（zuò）成對某種波長的吸收，而對另一種波（bō）長的透射的濾（lǜ）色（sè）片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建築物（wù）的大窗鍍膜茉莉，都很需要（yào）。增透膜則大量用於照相和各種激光器開始、一直到新型（xíng）建築物的大窗鍍（dù）膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用於照相（xiàng）機和電視攝象機的鏡頭上。

        在電子學方麵真空鍍（dù）膜更（gèng）占有極為重要的地位。各（gè）種規模的繼承電路。包（bāo）括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等（děng）都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為製備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光（guāng）器，約瑟夫（fū）遜（xùn）器件、電荷（hé）耦合器件（ CCD ）也都甬道各種薄（báo）膜。

        在（zài）顯（xiǎn）示器件方麵，錄象磁頭（tóu）、高密度錄象帶以及平麵顯示裝置的透明導電膜、攝像管光（guāng）導膜、顯示管（guǎn）熒光屏的鋁襯等也（yě）都（dōu）是采用（yòng）真空（kōng）鍍膜法製（zhì）備。在元件方麵，在真空中蒸發鎳鉻（gè），鉻或金屬陶瓷可以製（zhì）造電阻，在塑料上蒸（zhēng）發鋁、一（yī）氧化矽、二（èr）氧化鈦（tài）等（děng）可以（yǐ）製造電容器，蒸發硒可以得到靜電複印機用的（de）硒鼓、蒸發鈦（tài）酸鋇可以製造磁致伸縮的起聲元件等（děng）等。真空蒸發還可以用於製造超導膜和慣性約束巨變反應（yīng）用的微珠鍍層。此外還可以對珠寶、鍾（zhōng）表外殼表麵、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜，以（yǐ）及采用濺射鍍或離子鍍（dù）對刀具、模具等製造（zào）超硬膜（mó）。近兩年內所興起的多弧離子鍍製備鈦金製（zhì）品，如不鏽鋼薄板、鏡（jìng）麵板、包柱、扶手、高檔床托架（jià）、樓梯（tī）欄（lán）杆等目前正（zhèng）在盛行。