真（zhēn）空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一（yī）定的真空條件下，利用高溫加（jiā）熱蒸鍍（dù）材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定（dìng）溫度條件下， 

使其原子或分（fèn）子（zǐ）從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃基板表麵凝結形成固態薄（báo）膜的方法。

由於真空蒸（zhēng）鍛法的主要物理（lǐ）過程是通（tōng）過（guò）加熱（rè）蒸發材料而產生，所以（yǐ）又稱熱蒸發法。蒸（zhēng）發源作為蒸發（fā）裝置（zhì）的關鍵部件，

大多數蒸發材料都要求（qiú）在1000-2000℃的高溫下蒸發（fā）。真（zhēn）空蒸鍍法按蒸發源的不（bú）同可分為電（diàn）阻法、電子束蒸發法、高頻感應法和激（jī）光蒸發法等。