什麽是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉積：指利用物理過程實現物質轉移，將原子或（huò）分子由源轉移到基材（cái）表麵上的過程。

它的作用是可（kě）以使某些有特殊性能（強度高、耐（nài）磨（mó）性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴塗在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。

PVD基本方法（fǎ）：真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子（zǐ）鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD 技術（shù）是目前國際上科技含量（liàng）高且被廣泛（fàn）應用的離子鍍膜技術，它具有 鍍膜層致（zhì）密均勻、附著（zhe）力強、鍍性好、沉積速度快、處理溫（wēn）度低、可鍍材料廣泛等特點.

PVD 本身（shēn）鍍膜過程是高溫狀態下，等離子場（chǎng）下的輝光反應，亦是一（yī）個高淨化處理過程；鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主（zhǔ），鈦是金（jīn）屬中最與人體皮（pí）膚具（jù）親和性能的，使得PVD 產品本身具備純淨的環保性能（néng）。